TOF-SIMS

Spectromètre de masse par temps de vol à ions secondaires TOF-SIMS IV (constructeur ION-TOF GmbH). Équipé de deux sources d’ions : une source à pointe liquide source d’agrégats de bismuth (Bi3+, 25 keV) pour l’analyse de surface, et source d’agrégats massifs d’argon (Arn+, n = 500 à 5000, 10 à 20 keV). Imagerie par spectrométrie de masse, donnant accès de la composition chimique de surfaces (organiques, en particulier lipides, et minéraux) à une résolution spatiale de 400 nm. La source d’ions argon permet le nettoyage de la surface et une analyse, sur plusieurs microns de profondeur, des matériaux organiques.

Time-of-flight secondary ion mass spectrometer TOF-SIMS IV (manufacturer ION-TOF GmbH). Equipped with two ion sources: liquid metal ion gun emitting bismuth clusters (Bi3+, 25 keV) for surface analysis, and source of massive argon clusters (Arn+, n = 500 to 5000, 10 to 20 keV). Mass spectrometry imaging, giving access to the chemical composition of surfaces (organic, in particular lipids, and minerals) at a spatial resolution of 400 nm. The argon ion source allows the cleaning of the surface and an analysis, on several microns deep, of organic materials.